很遗憾的是，自从老美宣布对我国半导体发出禁令之后，欧美各大科技巨头担心老美的怒火会烧到自己的身上，都跟紧老美的指令对我国限制出口相关产口。
其中，光刻机的限制，对我国芯片行业的影响最大。其实在2018年的时候，我国晶圆代工巨头中芯国际就曾向荷兰ASML订购了一台EUV光刻机，但由于老美对我国半导体领域实施的禁令，导致荷兰无法向ASML发放许可证，以致于中国芯际至今未收到EUV光刻机。光刻机的缺位，让我国芯片产业陷入前所未有的困境。
从这里我们可以看出，想要解开华为等中国半导体企业被“卡”脖子的困境，光刻机成为了一道重要的坎。好消息是，我国半导体领域的多个顶尖机构目前已经成立了专项技术攻关小组，针对光刻机展开研制工作，并已经取得了初步的进展。
然而，就在我国光刻机攻坚工作进入关键阶段的时候。在5月25日举行的数博会上，我国工程院院士吴汉明却表示：让一个国家或者一个地区做一个光刻机是不现实的！
吴汉明院士的原话是：一台最高端的EUV光刻机价格大概是1亿多美元，里面大概有十万多零部件，超过全球5000家供应商，以及通过全世界的技术集成做起来，它是一个全球化的结晶。因此我们想独立完成不太现实。对于芯片先进制程，吴汉明院士指出，“相比完全进口的7nm，本土可控的55nm意义更大。”
对于吴汉明的讲话，很多网友表示不解，在芯片被老美“卡”脖子的当下，如果放弃研发光刻机，转而投入低端芯片的生产，是否会加剧我国半导体领域落后的局面。
其实吴汉明院所说的可能更符合我国半导体产业的发展现状。
首先，光刻机作为当今制造业最复杂的设备，拥有昂贵、复杂、精密等多种无与伦比的特性，目前还没有一个国家可以脱离他国的技术，独立制造光刻机出来，尤其是生产高端芯片的EUV光刻机。放眼全球，只有荷兰的ASML能够生产EUV光刻机，而且还是集合了美国、英国、德国、日本等先进技术集成做起来的。即便是这样，ASML每年也仅能够生产30台左右。因此，如果单靠我国独立研发，以目前的进度来看，至少这几年难以实现。
第二，我国作为全球最大的制造业国家，机电产品一直以来是我国主要的出品产口，这类产品对28nm以下的芯片需求量很大。而需要EUV光刻机才能制造的7nm以上的芯片，几乎只搭载于手机等智能产品。目前55nm是我国产能最不足的存在。所以，吴汉明院士的意思并不是说让我们放弃对EUV光刻机的研发，而是认清现实，有的放矢地发展我国半导体目前存在的短板。
也就是说，此前一直依赖进口芯片的我们，必须先把基础打实，把55nm芯片吃透，再一步步向高端芯片进发，这才是最稳固的发展进程。
