据官方统计，2020年一整年，我国新增芯片相关企业2万多家，累积之前，我国共有7.41万家芯片相关企业。进入2021年后，芯片相关企业数量持续增长，第一季度中国芯片相关企业大增302%，新增数量8679家。
在国内热火朝天的造芯热潮下，不管是半导体设备、还是材料都实现了一定程度的国产替代。
在全球高端芯片制程领域，三星已经完成了5nm芯片量产，台积电宣布攻克3nm技术，此前老美的IBM公布了制造2nm芯片的工艺，总之，在芯片先进制程上，各国各巨头都在你追我赶，唯恐落后。
我国晶圆巨头中芯国际CEO梁孟松曾官宣，中芯国际将于2021年4月风险试产7nm，当时梁孟松还透露只要EUV光刻机到位的话，中芯国际将展开5nm、3nm先进制程芯片的研发。
当时，此消息一出，国人为之沸腾。就在国人寄希望于中芯国家能够追赶上国外这些晶圆巨头，将国产芯片工艺推上更先进制程时，我国龙芯总设计师胡伟武却呼吁，我们不必跟风，人家做5nm、3nm，我们不一定跟着做，国内90%以上的产品其实都可以使用14nm以及28nm来满足。目前这两种工艺都已经够用了，不需要再急着去研发5nm。此言一出毫无意外招来不少质疑，认为这是对国产芯片发展“泼冷水”。
这个时候，我国工程院院士吴汉明也站出来发声了，吴院士称，相比于7nm、5nm这些高端工艺制程，我国掌控55nm工艺更加重要，因为目前55nm是我国目前产能最不足的存在，毫无疑问吴院士也被骂了。
吴院士不仅对芯片工艺有自己的看法，对于光刻机设备也发表了见解。前不久，吴院士也表示，一台EUV光刻机集结了5000家供应商，拥有10万个零部件，集合了多个国家的顶级技术，单靠一个国家和地区制造很难实现。这番言论很快招来反对的声音。
不过，前几天在世界半导体大会上，吴汉明院士再度发声，但这一次支持的声音远远多过反对的声音。吴院士分别从国产半导体产业链、芯片产能、技术以及国产化替代问题进行深入分析和解读。吴院士的观点都是基于目前国产半导体的处境进行分析。在芯片技术方面，他认为芯片发展需要遵循摩尔定律，在突破3nm工艺以后，很难再向下突破，这种情况下要反超，必须要在芯片研发的新材料以及工艺上进行突破。
在吴院士看来，芯片发展要做好打持久战的准备，急是急不来的，要一步一步来，不可能一下子就达到100%的自给率，必须要脚踏实地走好每一步。
吴院士认为，其实目前国内最需要的并不是7nm和5nm的先进芯片，而是28nm的成熟制程芯片，我们应该从实际需求出发，不要一味的攀比先进工艺。
